Putra, Yopi Ragil Permana (2018) Perancangan Sistem Deposisi Karbon Metode Sputtering Dan Studi Pengaruh Tegangan Listrik Pembangkit Plasma Pada Proses Deposisi. Sarjana thesis, Universitas Brawijaya.
Abstract
Penelitian mengenai pengaruh tegangan terhadap deposisi karbon telah dilakukan. Metode yang digunakan untuk penelitian ini adalah sputtering. Dilakukan pembuatan beberapa alat yang ditambahkan ke dalam sistem plasma untuk mendukung proses deposisi. Parameter yang digunakan pada proses deposisi adalah tekana 40 pa, laju alir 54 ml/menit, jarak substrat dengan bahan target 55 mm, suhu substrat 200 0C, waktu deposisi 1 jam dan teganga divariasi sebesar 80 volt, 100 volt dan 120 volt. Karbon yang digunakan untuk proses deposisi ini berbentuk pellet dan yang digunakan sebagai pembombardirnya adalah plasma argon. Karakterisasi plasma argon dilakukan menggunakan optical emission spectroscopy (OES) Aurora 4000 dengan acuan database NIST dengan hasil semakin tinggi tegangan yang digunakan maka semakin besar intensitas emisi plasma argon. Selain itu, intensitas emisi plasma argon juga semakin kecil ketika ditambahkan bahan target karbon dalam bentuk pellet di dalam sistem plasma. Spesies plasma yang lebih dominan muncul adalah Ar 1. Karakterisasi morfologi lapisan menggunakan mikroskop optik dengan hasil semakin tinggi tegangan yang digunakan maka penyebaran karbon semakin merata.
English Abstract
Research on effect of voltage to carbon deposition was done. Sputtering method was used in this research. Plasma system was modified to support deposition process. Parameters that seting up in deposition process that was pressure in 40 pa, flow rate in 54 ml/minutes, distance between substrates and carbon in 55 mm, substrates temperature in 200 0C, time of deposition about 1 hour, and voltage was varied in 80 volt, 100 volt, 120 volt. Carbon that used for deposition was formed in pellet, and used argon for atom bombardment. Characterization for plasma argon was used optical emission spectroscopy (OES) Aurora 4000 and reference for database was NIST. Voltage increase caused plasma argon emission intensity was higher. Beside it, the plasma argon emission intensity was reduced when carbon as pellet used into plasma system. Plasma species that was observed as Ar 1. Characterization for thin film morphology was used optical microscope in result voltage increase caused carbon dispersion more equally.
| Item Type: | Thesis (Sarjana) |
|---|---|
| Identification Number: | SKR/MIPA/2018/544/051901795 |
| Uncontrolled Keywords: | plasma argon, lapisan karbon, tegangan, morfologi / plasma argon, carbon thin film, voltage, morphology |
| Subjects: | 500 Natural sciences and mathematics > 546 Inorganic chemistry > 546.6 Groups 8, 9 ,10, 11, 12, 13, 14 > 546.68 Group 14 > 546.681 Carbon |
| Divisions: | Fakultas Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam > Fisika |
| Depositing User: | Endang Susworini |
| Date Deposited: | 20 Jul 2020 02:41 |
| Last Modified: | 20 Jul 2020 02:41 |
| URI: | http://repository.ub.ac.id/id/eprint/168875 |
Actions (login required)
 |
View Item |