Syah, Fahmi Alfian (2018) Studi Efektivitas Masking Polistiren pada Pembuatan Profil Permukaan Kuarsa QCM ( Quartz Crystal Microbalance) dengan teknik Wet Etching, menggunakan KOH sebagai larutan Etsa. Sarjana thesis, Universitas Brawijaya.
Abstract
Kinerja Quartz Crystal Microbalance (QCM) berbasis sensor dapat ditingkatkan dengan melakukan modifikasi permukaan dengan cara mengurangi ketebalan QCM. Tujuan dari studi ini adalah untuk meningkatkan sensitivitas QCM. Wet etching adalah salah satu teknik untuk mengurangi ketebalan QCM dengan melibatkan proses kimia. Pada penelitian ini, pengaruh konsentrasi etchant pada profil permukaan yang terbentuk, laju etsa, dan efektivitas masking akan diteliti. KOH digunakan sebagai larutan etchant , dan polistiren digunakan sebagai masking untuk melindungi permukaan QCM. Elektroda QCM dihilangkan terlebih dahulu menggunakan larutan HNO3. Masking polistiren dilapiskan pada permukaan QCM menggunakan teknik spin coating. Konsentrasi larutan etchant dapat mempengaruhi laju etsa. Proses wet etching pada QCM dilakukan pada konsentrasi KOH sebesar 30%, 35%, 40%, 45% dan 50% pada suhu 80oC selama 1,5 jam. Permukaan QCM yang terkikis diamati menggunakan TMS. Topografi pada TMS menunjukkan profil permukaan yang terbentuk pada permukaan QCM yang terkikis adalah isotropik. Laju etsa KOH yang paling baik didapati pada konsentrasi KOH 40% yaitu sebesar 295,44 nm/jam. Selanjutnya, keefektivitasan masking yang paling baik didapatkan pada konsentrasi 40% dimana nilai selektivitasnya sebesar 3,09.
English Abstract
The performance of QCM as sensor can be improved by surface modification by reducing the QCM thickness. The purpose of this study is to enhance the sensitivity of QCM sensor. Wet etching is one of the technique to reducing QCM thickness using chemical process. In this experiment, the effect of etchant concentration on the patterned area, the etching rate, and the effectivity of masking was investigated. KOH was used as etchant during wet etching process and polystyrene was used as masking to protect the rest of QCM surface. The electrode was removed using HNO3 solution. The polystyrene mask was coated on QCM surface by spin coating. The etchant concentration affect etching rate. The wet etching process was carried out using KOH concentration of 30%, 35%, 40%, 45% and 50% at 80oC for 1,5 hours. The etched area was observed using a TMS. The results show that the patterned area on the surface of the QCM was isotropic. The best etching rate of KOH solution on QCM surface were obtained at 40% of KOH concentration. The etching rate value of KOH solution on QCM surface at 40% of KOH concentration was 295,44 nm/hr. Furthermore, the highest masking effectivity was obtained at 40% of KOH concentration with the value of 3,09.
| Item Type: | Thesis (Sarjana) |
|---|---|
| Identification Number: | SKR/MIPA/2018/476/051900405 |
| Uncontrolled Keywords: | QCM, Wet Etching, KOH, Masking, Polistiren QCM, Wet Etching, KOH, Masking, Polystyrene |
| Subjects: | 700 The Arts > 767 Etching and drypoint > 767.2 Etching |
| Divisions: | Fakultas Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam > Fisika |
| Depositing User: | Budi Wahyono Wahyono |
| Date Deposited: | 27 Jul 2020 06:56 |
| Last Modified: | 18 Oct 2021 06:42 |
| URI: | http://repository.ub.ac.id/id/eprint/168779 |
Preview |
Text
Fahmi Alfian Syah (2).pdf Download (3MB) | Preview |
Actions (login required)
 |
View Item |