Diny, RonaRinarwan (2011) Perancangan dan Pembuatan Sistem Kontrol Temperatur Meja Substrat Pada ReaktorVakum dengan Algoritma Kontrol PID. Sarjana thesis, Universitas Brawijaya.
Abstract
Tulisan ini memaparkan proses perancangan dan pembuatan sistem kontrol temperatur meja substrat pada reaktor vakum dengan algoritma kontrol PID yang diterapkan secara digital menggunakan mikrokontroler ATmega8535. Parameter PID ditetapkan dengan metode trial and error. Sistem kontrol yang dibuat juga dilengkapi dengan mekanisme proteksi panas untuk pangkal pemanas. Mekanisme tersebut adalah kenaikan tegangan input pemanas secara bertahap pada awal pengontrolan temperatur meja substrat, dan penghentian proses pengontrolan temperatur meja substrat selama beberapa saat jika temperatur pada pangkal pemanas melebihi 200 °C. Hasil pengujian menunjukkan bahwa respon terbaik untuk set temperatur 100 °C diperoleh dengan pengesetan Kp = 120, Ki = 2, dan Kd = 0, dan respon terbaik untuk set temperatur 200 °C diperoleh dengan pengesetan Kp = 140, Ki = 3, dan Kd = 0. Oleh karena itu, respon terbaik diperoleh dengan algoritma kontrol PI. Hasil pengujian juga menunjukkan bahwa temperatur pada bagian pangkal pemanas telah dapat dikontrol dan penambahan jumlah step dari 4 menjadi 6 telah menunda overheated selama 0,5 menit.
| Item Type: | Thesis (Sarjana) |
|---|---|
| Identification Number: | SKR/MIPA/2011/319/051104943 |
| Subjects: | 500 Natural sciences and mathematics > 530 Physics |
| Divisions: | Fakultas Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam > Fisika |
| Depositing User: | Unnamed user with email repository.ub@ub.ac.id |
| Date Deposited: | 14 Dec 2011 09:17 |
| Last Modified: | 22 Oct 2021 07:59 |
| URI: | http://repository.ub.ac.id/id/eprint/152780 |
Preview |
Text
051104943.pdf Download (4MB) | Preview |
Actions (login required)
 |
View Item |