DimasSuryaKusuma (2010) Pengaruh Rapat Arus dan Jarak Elektroda Terhadap Ketebalan Lapisan Pada Proses Hard Chrome Plating. Sarjana thesis, Universitas Brawijaya.
Abstract
Proses pelapisan hard chrome merupakan proses finishing yang banyak diaplikasikan pada dunia industri logam dan industri permesinan. Pelapisan hard chrome ini memiliki sifat-sifat yang tidak dimiliki oleh hasil pelapisan logam lain, seperti koefisien gesek rendah, tahan korosi, tahan aus, meningkatkan kekerasan permukaan, dan sebagainya. Dalam industri permesinan tidak sedikit komponenkomponen mekanik yang mengalami undersized , sehingga sebagian besar industri lebih memilih untuk melakukan rekondisi terhadap lapisan hard chrome pada komponen tersebut, untuk mendapatkan ketebalan lapisan yang sesuai dengan dimensi awal maka perlu dilakukan perhitungan dan optimalisasi variabel-variabel yang mempengaruhi proses pelapisan hard chrome . Variabel-variabel yang berpengaruh pada proses electroplating antara lain rapat arus, konsentrasi larutan elektrolit, temperatur elektrolit, jarak elektroda dan waktu pelapisan. Tujuan dari penelitian ini adalah untuk mengetahui pengaruh rapat arus dan jarak elektroda terhadap ketebalan lapisan dari hasil proses hard chrome plating . Pada penelitian ini variasi rapat arus yang digunakan adalah 25, 35, 45, 55 dan 65 ( A / dm² ) dan jarak elektroda yang digunakan adalah 3 dan 9 (cm). Larutan elektrolit yang digunakan yaitu 300 gr / l Chromic Acid dan 3 gr / l Asam Sulfat. Pickling Asam menggunakan larutan ACTANE ® 345 sebanyak 120 gr / l . Temperatur dijaga konstan pada 50°C dan waktu pelapisan selama 60 menit. Selanjutnya nilai ketebalan lapisan diukur dengan menggunakan alat ukur ketebalan lapisan atau coating thickness gauge . Hasil penelitian menunjukkan bahwa semakin tinggi rapat arus dan semakin kecil jarak elektroda maka nilai ketebalan lapisan semakin meningkat. Dari hasil penelitian didapatkan nilai ketebalan lapisan yang terendah sebesar 14,40 μm pada spesimen dengan rapat arus 25 A / dm² dan jarak elektroda 9 cm. Sedangkan nilai ketebalan lapisan tertinggi sebesar 38 μm pada spesimen dengan rapat arus 65 A / dm² dan jarak elektroda 3 cm.
| Item Type: | Thesis (Sarjana) |
|---|---|
| Identification Number: | SKR/FT/2010/460/051002659 |
| Subjects: | 600 Technology (Applied sciences) > 621 Applied physics |
| Divisions: | Fakultas Teknik > Teknik Mesin |
| Depositing User: | Endang Susworini |
| Date Deposited: | 20 Oct 2010 14:31 |
| Last Modified: | 20 Oct 2021 03:57 |
| URI: | http://repository.ub.ac.id/id/eprint/140398 |
Preview |
Text
051002659.pdf Download (3MB) | Preview |
Actions (login required)
 |
View Item |