Anugrah, Syafri Devi (2017) Studi Pengaruh Waktu Deposisi Pada Sistem Plasma Sputtering Terhadap Pembentukan Lapisan Tipis Karbon Di Atas Substrat Kaca. Sarjana thesis, Universitas Brawijaya.
Abstract
Bahan target karbon dari hasil karbonisasi tempurung kelapa dengan kemurnian tinggi di deposisikan pada kaca substrat dengan metode sputtering untuk mendapatkan lapisan tipis karbon. Tujuan dari penelitian ini adalah untuk mengetahui karakteristik lapisan tipis karbon dari hasil variasi waktu deposisi pada proses sputtering menggunakan FTIR dan SEM EDX. Variasi waktu deposisi yang digunakan adalah 60 menit, 120 menit, dan 180 menit pada jarak elektroda 15 mm dengan daya generator 200 watt dan laju aliran gas argon 25 mL/menit. Ikatan yang dianalisa dari data FTIR adalah ikatan C=C. Nilai absorbansi paling tinggi untuk ikatan C=C diberikan pada waktu 120 menit. Hal ini karena semakin lama waktu deposisi maka jumlah partikel yang terdeposisi semakin banyak, namun lapisan akan rusak karena terus menerus ditembaki oleh ion. Dari hasil Uji SEM-EDX memberikan informasi bahwa lapisan yang terdeposisi membentuk islands yang mengindikasikan bahwa lapisan karbon yang terdeposisi belum merata.
| Item Type: | Thesis (Sarjana) |
|---|---|
| Identification Number: | SKR/MIPA/2017/137/051701083 |
| Subjects: | 500 Natural sciences and mathematics > 530 Physics |
| Divisions: | Fakultas Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam > Fisika |
| Depositing User: | Budi Wahyono Wahyono |
| Date Deposited: | 09 Feb 2017 14:20 |
| Last Modified: | 23 Mar 2022 03:06 |
| URI: | http://repository.ub.ac.id/id/eprint/155178 |
Preview |
Text
Syafri Devi Anugrah.pdf Download (2MB) | Preview |
Actions (login required)
 |
View Item |