BKG

Lestari, Vivid Ayu (2017) Pengaruh Konsentrasi Fenol dan Sumber Sinar terhadap Degradasi Fenol Menggunakan Fotokatalis Lapis Tipis TiO2/N-Kitosan. Sarjana thesis, Universitas Brawijaya.

Indonesian Abstract

Penelitian ini bertujuan untuk mengetahui degradasi fenol dengan menggunakan fotokatalis lapis tipis TiO2/N-Kitosan dengan mempelajari pengaruh konsentrasi fenol dan sumber sinar yang digunakan dalam proses degradasi. Dopping N dilakukan dengan perbandingan mol TiO2 : urea (20:3) dengan metode sonikasi. Sintesis fotokatalis lapis tipis TiO2/N-Kitosan dilakukan dengan metode dip-coating menggunakan kaca preparat sebagai media pencelup. Karakteristik TiO2/N diketahui menggunakan XRD dan karakteristik TiO2/N-Kitosan diketahui dengan menggunakan SEM. Aktivitas fotokatalis lapis tipis TiO2/N-Kitosan diuji menggunakan 25 mL larutan fenol dengan variasi konsentrasi fenol sebesar 25, 50, 75 dan 100 mg/L pada penyinaran dibawah sinar UV dengan panjang gelombang 352 nm, sinar matahari, dan tanpa penyinaran (gelap) selama 2 jam. Konsentrasi fenol setelah penyinaran ditentukan menggunakan spektrofotometer UV-Vis pada panjang gelombang 269,7 nm. Hasil karakterisasi menggunakan SEM menunjukkan bahwa fotokatalis lapis tipis TiO2/N-Kitosan memiliki struktur permukaan yang lebih rapat dengan partikel-partikel penyusun berbentuk bulat berukuran 6-10 nm dan hasil karakterisasi XRD menunjukkan bahwa TiO2/N memiliki struktur kristal anatase. Dari hasil penelitan diketahui bahwa konsentrasi fenol terdegradasi optimum adalah 25 mg/L. Fotokatalis lapis tipis TiO2/N-Kitosan bekerja lebih baik dalam mendegradasi fenol dibawah sinar matahari dengan persen degradasi sebesar 46,29%.

English Abstract

This Research aims to determine the degradation of phenol using TiO2/N-Chitosan thin film photocatalyst by studying the effect of phenol concentration and the light source used in the degradation process. Dopping N is performed by the mole ratio of TiO2: urea (20: 3) by sonication method. Synthesis of TiO2/N-Chitosan thin film photocatalyst was performed by dip-coating method using glass preparations as dyeing medium. Characteristics of TiO2/N is known by XRD and characteristics of TiO2/N-Chitosan is known by SEM. TiO2/N-Chitosan thin film photocatalyst activity be examined using 25 mL of phenol solution with variations of phenol concentration are 25, 50, 75 and 100 mg/L at irradiation under UV light at a wavelenght 352 nm, sun light, and without light (dark) during 2 hours. The concentration of phenol after irradiation was determined using a UV-Vis spectrophotometer at a wavelength 269.7 nm. The characterization results using SEM shows that TiO2/N-Chitosan thin film photocatalyst has a denser surface structure with a round particle’s size is 6-10 nm and XRD shows that TiO2/N has an anatase crystal structure. From the results of the research is known that the concentration of phenol degraded optimally at 25 mg/L. TiO2/N-Chitosan thin film photocatalysts work better under sun light with a phenol degradation percentage is 46.29%.

Other Language Abstract

UNSPECIFIED

Item Type: Thesis (Sarjana)
Identification Number: SKR/FMIPA/2017/386/051709726
Uncontrolled Keywords: degradasi, dip-coating, fotokatalis lapis tipis TiO2/N-Kitosan, fenol, sinar UV dan sinar matahari.
Subjects: 500 Natural sciences and mathematics > 541 Physical chemistry > 541.3 Miscellaneous topics in physical chemistry > 541.37 Electrochemistry and magnetochemistry > 541.372 Electrolytic solutions > 541.372 4 Electrodes and elektrode phenomena > 541.378 Magnetochemistry > 541.395 Catalysis
Divisions: Fakultas Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam > Kimia
Depositing User: Nur Cholis
URI: http://repository.ub.ac.id/id/eprint/4038
Text
Bagian Depan.pdf

Download | Preview
Text
BAB I.pdf

Download | Preview
Text
BAB II.pdf

Download | Preview
Text
BAB III.pdf

Download | Preview
Text
BAB IV.pdf

Download | Preview
Text
BAB V.pdf

Download | Preview
Text
Daftar Pustaka.pdf

Download | Preview

Actions (login required)

View Item View Item