BKG

Zulkarnain, MuhammadRoby (2012) Pengaruh Perbandingan Konsentrasi Gliserin (C3H5(OH)3) dan Asam Sulfat (H2SO4) terhadap Ketidakstabilan Antarmuka (Interfacial Instability) pada Pembuatan Nitrogliserin dalam Hele Shaw Cell. Sarjana thesis, Universitas Brawijaya.

Indonesian Abstract

Nitrogliserin merupakan salah satu bahan kimia yang bisa digunakan sebagai obat-obatan dan bahan peledak, sehingga produksi nitrogliserin ini perlu untuk dikembangkan mengingat kebutuhannya yang terus meningkat di Indonesia. Nitrogliserin dapat dihasilkan melalui proses nitrasi gliserin (C3H5(OH)3) pada kondisi tertentu dengan menggunakan campuran asam nitrat (HNO3) dan asam sulfat (H2SO4). Reaksi nitrasi gliserin dengan cara pengadukan merupakan reaksi yang sangat berbahaya yang berpotensi terjadi ledakan. Untuk mengurangi dampak reaksi yang berbahaya digunakan sebuah metode reaksi di dalam celah sempit atau hele shaw cell (HSC). Asam nitrat diinjeksikan ke dalam celah HSC yang di dalamnya terdapat campuran gliserin dan asam sulfat dengan perbandingan konsentrasi yang berbeda-beda. Hal ini dimaksudkan untuk memperlihatkan sampai seberapa besar pengaruhnya terhadap interfacial instability sehingga diperoleh bentuk finger yang berbeda-beda. Perbandingan konsentrasi dalam persen volume campuran gliserin dan asam sulfat yang digunakan berturut-turut adalah 80:20, 70:30, 60:40, 50:50, dan 40:60. Dari hasil penelitian didapatkan bahwa semakin besar konsentrasi gliserin pada campuran gliserin dan asam sulfat akan membuat viskositas fluida terdesak semakin besar yang akan menimbulkan lebar viscous finger yang terbentuk semakin kecil, banyak percabangan, dan menghasilkan bidang kontak yang semakin luas antara campuran gliserin dan asam sulfat dengan asam nitrat sehingga menghasilkan interfacial instability yang besar, tetapi reaksi berjalan lebih lambat karena konsentrasi katalis lebih sedikit.

English Abstract

UNSPECIFIED

Other Language Abstract

UNSPECIFIED

Item Type: Thesis (Sarjana)
Identification Number: SKR/FT/2012/241/051202453
Subjects: 600 Technology (Applied sciences) > 621 Applied physics
Divisions: Fakultas Teknik > Teknik Mesin
Depositing User: Endang Susworini
URI: http://repository.ub.ac.id/id/eprint/141395
Full text not available from this repository.

Actions (login required)

View Item View Item