BKG

DimasSuryaKusuma, (2010) Pengaruh Rapat Arus dan Jarak Elektroda Terhadap Ketebalan Lapisan Pada Proses Hard Chrome Plating. Sarjana thesis, Universitas Brawijaya.

Indonesian Abstract

Proses pelapisan hard chrome merupakan proses finishing yang banyak diaplikasikan pada dunia industri logam dan industri permesinan. Pelapisan hard chrome ini memiliki sifat-sifat yang tidak dimiliki oleh hasil pelapisan logam lain, seperti koefisien gesek rendah, tahan korosi, tahan aus, meningkatkan kekerasan permukaan, dan sebagainya. Dalam industri permesinan tidak sedikit komponenkomponen mekanik yang mengalami undersized , sehingga sebagian besar industri lebih memilih untuk melakukan rekondisi terhadap lapisan hard chrome pada komponen tersebut, untuk mendapatkan ketebalan lapisan yang sesuai dengan dimensi awal maka perlu dilakukan perhitungan dan optimalisasi variabel-variabel yang mempengaruhi proses pelapisan hard chrome . Variabel-variabel yang berpengaruh pada proses electroplating antara lain rapat arus, konsentrasi larutan elektrolit, temperatur elektrolit, jarak elektroda dan waktu pelapisan. Tujuan dari penelitian ini adalah untuk mengetahui pengaruh rapat arus dan jarak elektroda terhadap ketebalan lapisan dari hasil proses hard chrome plating . Pada penelitian ini variasi rapat arus yang digunakan adalah 25, 35, 45, 55 dan 65 ( A / dm² ) dan jarak elektroda yang digunakan adalah 3 dan 9 (cm). Larutan elektrolit yang digunakan yaitu 300 gr / l Chromic Acid dan 3 gr / l Asam Sulfat. Pickling Asam menggunakan larutan ACTANE ® 345 sebanyak 120 gr / l . Temperatur dijaga konstan pada 50°C dan waktu pelapisan selama 60 menit. Selanjutnya nilai ketebalan lapisan diukur dengan menggunakan alat ukur ketebalan lapisan atau coating thickness gauge . Hasil penelitian menunjukkan bahwa semakin tinggi rapat arus dan semakin kecil jarak elektroda maka nilai ketebalan lapisan semakin meningkat. Dari hasil penelitian didapatkan nilai ketebalan lapisan yang terendah sebesar 14,40 μm pada spesimen dengan rapat arus 25 A / dm² dan jarak elektroda 9 cm. Sedangkan nilai ketebalan lapisan tertinggi sebesar 38 μm pada spesimen dengan rapat arus 65 A / dm² dan jarak elektroda 3 cm.

English Abstract

UNSPECIFIED

Other Language Abstract

UNSPECIFIED

Item Type: Thesis (Sarjana)
Identification Number: SKR/FT/2010/460/051002659
Subjects: 600 Technology (Applied sciences) > 621 Applied physics
Divisions: Fakultas Teknik > Teknik Mesin
Depositing User: Endang Susworini
URI: http://repository.ub.ac.id/id/eprint/140398
Text
051002659.pdf

Download | Preview

Actions (login required)

View Item View Item